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發布人:摩方精密

發布時間:2024/09/04

微納3D打印助力斯坦福大學SLAC實驗新進展,用于快速提升高頻無源微波器件性能

作為美國的重要戰略布局科研機構,坐落在斯坦福大學中的SLAC國家加速器實驗室專門從事粒子加速器的設計與建造以及高速粒子的研究工作,并在這一專業領域取得了巨大成就,其中包括三項榮獲諾貝爾獎的重要發現。SLAC實驗室在化學、材料學、能源科學、生物科學、聚變能源科學、高能物理和宇宙學等多個前沿科學領域均有所貢獻。


其中,正交模耦合器(Ortho-Mode Transducer)是天線系統中的關鍵組件,用于分離和混合兩個相互正交的極化波,能夠將輸入信號分離成兩個正交極化方向的信號,并將它們分別傳輸到相應的接收器或發射器中。這項技術是SLAC實驗室的重點研究方向之一,它在衛星通信、雷達、射電望遠鏡等領域發揮著至關重要的作用,為提升這些系統的性能和效率提供了不可或缺的支持。


發現問題與應對挑戰


PROBLEMSLAC國家加速器實驗室的項目經理Gregory Peter Le Sage開發了一種高頻OMT。實驗初期,該團隊嘗試使用立體光刻(SLA)技術進行3D打印。然而,由于SLA打印的OMT樣件未能達到性能預期,這促使Le Sage必須去尋找更高精度和機械強度的精密制造解決方案。


在打印OMT時,該團隊發現使用光學精度為50 μm的SLA打印設備會導致OMT出現了嚴重的性能缺陷。該OMT樣件在71 GHz處的插入損耗達到11 dB,遠超過了數控加工原型中觀察到的可接受損耗閾值1.5 dB。由于SLA技術較低的分辨率,導致樣件的公差較大,致使打印樣件尺寸不精確,這嚴重影響了OMT的高頻性能,進而導致信號衰減和失真。模擬結果表明,即使是10 μm的輕微偏差,也可能大幅降低組件的有效性。


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利用SLA技術打印的OMT樣件


重新設計和工藝改進


REDESIGN經過相關實驗后,Le Sage意識到,為了達到預期的效果,OMT樣件的精細度和機械強度必須要得到提升。因此,他對OMT模型進行了專門針對3D打印技術的重新設計。重新設計的目的是增強部件的結構完整性,這對于OMT的性能和耐用性都是至關重要的。最終,他選擇了摩方精密面投影微立體光刻(PμSL)3D打印技術,該技術以其高精度、高質量、高公差控制能力等特點,可以完美的制造出全新設計的OMT模型。


先進制造和性能評估


MANUFACTURING借助摩方精密的microArch? S240(精度:10 μm)3D打印設備,該團隊完成了全新的OMT設計打印,其精度與高頻應用所需的精度一致,進一步保障了OMT的高頻性能。3D打印完成后,OMT樣件進行了電鍍處理,通過改進了對內部表面的接觸,進一步確保了電鍍效果。


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PμSL 技術打印的OMT樣件準備進行測試


通過本次研究,3D打印技術對高頻組件性能有著至關重要的影響。與傳統制造工藝相比,摩方精密微納3D打印技術可以實現高精度復雜零件的加工制造,保障了OMT能夠滿足微波通信系統對高性能的嚴格要求。這一技術在分辨率和公差控制上的能力對于推動研究成果的應用具有重要意義,并助力微波通信系統的發展,為通信技術的未來進步開辟了新的路徑。


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