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行業資訊

我們為世界創造精彩，記錄摩方精密的每一步發展

  • 2024/06/06

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    西湖大學周南嘉團隊《Additive Manufacturing》:通過模塊化設計的擠出頭調控纖維內部周期性結構

    西湖大學工學院周南嘉團隊提出了一種模塊化策略設計擠出頭，利用摩方精密nanoArch? P140和S140 高精度DLP 3D打印設備（精度：10μm）一體化成型制造而成。通過模塊化平臺策略，極大的簡化了擠出頭設計的難度，提高了具有周期性結構纖維的加工效率。

  • 2024/06/03

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    中國科學院上海硅酸鹽研究所馬明研究員團隊《Nano Today》：融合螺旋聚焦流微反應器與高通量篩選技術獲得高度均一的納米脂質體

    中國科學院上海硅酸鹽研究所和國科大杭州高等研究院化學與材料科學學院研究人開發的螺旋聚焦流微反應器，采用nanoArch? S140，有效克服傳統鍵合方法所引起的通道堵塞和結構穩定性差等問題，可實現高達100 mL/min的流體通量。

  • 2024/05/31

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    杭州師范大學材料與化學化工學院朱雨田教授課題組《JCIS》：基于麥芒仿生多級結構的高靈敏與寬量程離-電式壓力傳感器

    杭州師范大學材料與化學化工學院朱雨田教授團隊基于麥芒仿生多級結構設計開發了一種兼具高靈敏和寬量程的離-電式壓力傳感器。采用摩方精密 microArch? S240（精度：10 μm）3D打印設備加工模具后經聚乙烯醇（PVA）/磷酸（H3PO4）翻模制備而成。

  • 2024/05/29

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    南方科技大學葛锜教授課題組《Science Advances》：高性能共價適應性網絡形狀記憶聚合物的可重構4D打印

    南方科技大學葛锜教授課題組使用 microArch? S240 （精度：10μm），開發了一種適用于高分辨率DLP 3D打印的高力學性能共價適應性網絡形狀記憶聚合物，實現了可完全重構、高斷裂應變、高精度4D打印。

  • 2024/05/28

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    microArch® D0210/D1025：復合精度光固化3D打印技術突破，多場景應用大有不同

    摩方精密正式發布復合精度光固化3D打印技術，面向全球市場推出首創Dual Series（以下簡稱D系列）設備：microArch? D0210和microArch? D1025，在速度、質量和便捷性上進行大幅提升，將有效解決增材制造中高精度和大幅面的固有矛盾，再次實現工業級3D打印技術新突破。

  • 2024/05/22

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    香港科技大學范智勇教授團隊《Science Robotics》封面文章：面向機器視覺應用的基于半球形納米線陣列的超寬視場針孔復眼

    香港科技大學范智勇教授團隊開發了一種獨特的針孔復眼（PHCE）系統,使用摩方精密nanoArch? P140制備了對應幾何參數的針孔陣列，并與半球殼的凸面共形，原料為光敏樹脂。

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